現在の新型コロナウィルスの世界的流行は、防護マスクを含む重要な医薬品の不足によって状況がさらに悪化しています。世界中の多くの医療従事者が、使い捨てマスクを何度も再使用せざるを得ず、感染のリスクが増大しています。この問題の解決に、スイスのスタートアップが挑んでいます。スイス連邦工科大学ローザンヌ（EPFL）のスピンオフ企業Swoxid社は、UV光殺菌可能な抗ウイルスマスクのプロトタイプ版を製作しました。順調に開発が進めば、1000回以上も安全に再利用できるマスクとして市場に提供が可能です。
このマスクに施された技術は、ナノ多孔性エアロゲル複合膜をフィルターとし、太陽光や紫外線の照射により細菌やウイルスなどの感染性生物剤を不活化し、汚染されたマスクを安全性を蘇らせます。Swoxid社の技術が製品化されれば、現在のマスク不足危機対処のみならず、日常生活で毎日廃棄される大量のマスクにも病原体が染み込み、新たな病気媒介の可能性を高めているという公衆衛生上の問題の解決にもつながります。
Swoxid社のマスクはまだ製品化されていませんが、フィルターの原料となるエアロゲル材は既に特許取得済みで量産が可能です。同社は現在、この画期的なマスクの研究開発と商業化を加速するための研究・生産パートナーを募っています。
